Principe des technologies plasma d’AcXys Technologies

AcXys Technologies a développé l’intégralité de ses technologies plasma, en mettant au point l’électronique de puissance intégrée dans ses générateurs et en développant des sources plasma extrêmement performantes.

Ces technologies plasma permettent d’offrir une vitesse de traitement élevée, compatible avec des applications industrielles sur de nombreux matériaux.

Effets produits sur les surfaces lors d’un traitement plasma

L’état plasma étant porteur d’une réactivité chimique importante, il peut être utilisé pour modifier la surface de beaucoup de matériaux. Pour obtenir ce résultat, il suffit de diriger le flux gazeux d’espèces réactives vers la surface à traiter.

Il en résulte 3 grands types de réaction chimique utile pour le traitement de surface.

LE NETTOYAGE ET LA DECONTAMINATION

Les technologies plasma sont capables de retirer des couches extrêmement fines de contaminations superficielles, qu’elles soient de nature organique ou hydrocarbure.

Dans certaines applications, elles interviennent souvent en complément des technologies de nettoyage par voie liquide.

L’ACTIVATION DE SURFACE

L’activation de surface est un procédé visant à modifier superficiellement la nature de la surface d’un matériau, en y ajoutant des atomes ou des molécules.

C’est un procédé simple qui se retrouve dans un grand nombre d’applications industrielles, en particulier lorsqu’il s’agit d’accroître l’adhérence d’une colle, d’une encre, d’une peinture ou d’un vernis.

Pour mettre en pratique cette technologie, AcXys Technologies a développé ses gammes d’équipements ULS et d’équipements ULD.

DÉPÔT DE COUCHES MINCES

Les technologies plasma sont aussi utilisées dans les procédés de dépôt de couches minces de matériaux sur les surfaces à modifier.

Pour cela, il suffit d’injecter des produits chimiques (précurseurs) liquides ou gazeux dans le plasma afin de réaliser des dépôts de couches minces.

AcXys Technologies a développé pour cela par les équipements ULCoat pour le dépôt de couches de SiO2.