Découvrez l’ulcoat mis au point par acxys technologies : la simplicité du dépôt de couches minces pour de nombreuses applications

L’ULCoat

Avec l’injection d’un précurseur dans le plasma en post-décharge, l’ULCoat permet le dépôt de couches minces sur la surface traitée.

L’ULCoat est un système vaporisant et injectant un précurseur sous la buse plasma. L’ULCoat s’utilise couplé avec un générateur ULS OMEGA.
Le module standard est conçu pour le dépôt d’oxydes de silicium (SiOx) en utilisant un précurseur organométallique. Mais d’autres compositions de films peuvent être étudiées.
Le laboratoire de développement de procédés d’AcXys Technologies est à votre service pour mettre au point l’application qui réponde à vos besoins dans le cadre d’un contrat de R&D.

L’ULCoat est disponible en module autonome ou en version intégrable dans d’autres équipements (version OEM).

La technologie ULCoat

  • – S’utilise avec un module ULS OMEGA
  • – Dépôt de couches minces
  • – Épaisseur ajustable de 50 à 1000 nanomètres
  • – Uniformité supérieure +/- 2%
  • – Vitesse de traitement moyenne à haute jusqu’à 200 nm.cm2 / s
  • – Version standard optimisée pour le dépôt d’oxydes de silicium (SiOx)

La buse d’injection

Le débit de précurseur liquide est contrôlé avant l’injection dans le plasma. Ce module est constitué de plusieurs composants :

  • – Réservoir de précurseur
  • – Contrôle de flux de précurseur
  • – Contrôle de débit de gaz
  • – Module de chauffage (facultatif)

Interface tactile ergonomique

  • – Écran tactile intégré (ou déporté si version OEM)
  • – Pilotage intuitif
  • – Interface multilingue
  • – Détection et diagnostic des défauts
  • – Lecture et affichage des consignes en temps réel

Les gaz compatibles

  • – Air
  • – Azote
  • – Autre mélange de gaz

Avantages de la technologie ULCoat

  • – Basse température
  • – Uniformité en épaisseur + ou – 2 %
  • – D’autres types de dépôt peuvent être étudiés
  • – Existe en version OpenFlow pour le développement de nouveaux procédés de dépôt